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離子濺射儀
冷卻循環(huán)水機
濺射耗材配件

JS-1600小型離子濺射儀
JS-600M小型磁控濺射儀
金靶濺射靶材
LX-S10-BLP1KW小功率冷水機
LX-S12-BHP1.2KW冷卻循環(huán)水機
LX-S65-BHP6.5KW冷卻循環(huán)水機
LX-S45-BHP4.5KW冷卻循環(huán)水機
LX-S20-BHP2KW冷卻循環(huán)水機

關于我們

about us

南京舜儀實驗設備有限公司是由南京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責任公司變更而來，擁有“舜儀”和“SAINTINS”等注冊商標。公司致力于等離子體相關產(chǎn)品的開發(fā)，目前主要生產(chǎn)小型離子濺射和小型磁控濺射，獲得客戶廣泛認可。隨著對行業(yè)的不斷深入，期待能夠推出更多質優(yōu)價廉的設備，為我們的儀器行業(yè)添磚加瓦。我們追求的目標是為用戶提供滿意的產(chǎn)品及服務，以重諾守信，嚴謹求實，目光遠大的行為為準則。“舜之品，儀之質”，對于新老客戶，我們將一如既往,恪守“服務至上”的承諾，與用戶保持長期的合作，為用戶提供放心的，滿意的的產(chǎn)品。我們將憑借高效、高質的服務，高信任度的企業(yè)形象與廣大用戶共同發(fā)展！由于（北京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責任公司）的業(yè)務調整，原有的產(chǎn)品將逐漸由（南京舜儀實驗設備有限公司）承接，所有服務和承諾不變。

公司簡介

聯(lián)系我們

技術文章

Technical articles

2025
10-23

薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜制備的實驗室設備。磁控濺射技術是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...
2025
9-17

薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設計要點
磁控濺射是利用磁場增強的濺射效應來制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過電場將離子加速，撞擊靶材表面，導致靶材原子或分子濺射出來，并沉積到基...
2025
8-20

低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統(tǒng)濺射...
2025
7-16

桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過程。當高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時，靶材中的原子或分子受到?jīng)_擊力從表面彈出，產(chǎn)生濺射效應。濺射出的原子或分子會...
2025
6-17

冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設備，廣泛應用于材料科學、半導體工業(yè)、光電器件制造等領域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點，并能夠在不加熱基材...
2025
5-21

桌面型小型離子濺射儀的設計特點詳細介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進工具，廣泛應用于半導體制造、光學涂層、表面分析等領域。離子濺射技術通過利用離子束轟擊靶材，使靶...
2024
12-16

貴金屬靶材蒸發(fā)料加工蒸發(fā)薄膜的沉積與控制
貴金屬靶材蒸發(fā)料加工技術作為一種重要的薄膜制備技術，在多個行業(yè)中得到了廣泛應用。隨著技術的不斷發(fā)展，蒸發(fā)加工的精度和效率不斷提高，新的蒸發(fā)方法和設備層出不窮，貴...
2024
11-18

光纖鍍膜小型離子濺射儀適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種用于精確鍍膜技術的設備，廣泛應用于光學、電子、材料科學等領域。其主要功能是通過離子濺射技術將薄膜材料沉積到光纖表面，以改善其光學性能...

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